１）主催団体名
SID日本支部
２）行事名
SID日本支部設立50周年記念第二回講演会
３）開催地・会場
東京 機械振興会館67会議室
４）開催日時
2023年9月1日
５）リンクＵＲＬ
https://sid-japan.org/sid_jc_50th_anniversary_2/
６）詳細説明
～SID日本支部設立50周年記念第二回講演会～
SID日本支部発足50周年を記念いたしまして、FPDにまつわる講演会を開催しております。
第二回講演会では、バックプレーン技術に焦点を絞り講演会を開催します。バックプレーンでの重要な要素である薄膜トランジスタ（TFT）は、アモルファス水素化シリコンより始まり、高温ポリシリコン、低温ポリシリコンを経て、現在では酸化物半導体が盛んに研究開発されています。この講演会では各バックプレーン技術に詳しい方にその歴史を語っていただく予定です。バックプレーン技術開発およびその歴史を詳しく知る貴重な機会となります。ディスプレイ開発を深く知りたい方にとって、有意義な講演会になることが期待できます。
＜概 要＞
日 時： 2023年9月1日(金)10:00～16:50
開催形式： 現地開催
会 場： 機械振興会館67会議室
予 稿 集： Webよりダウンロード
印刷版は先着50名様に2,000円で販売します
申し込み時に予稿集希望にチェックを入れて下さい。資料は当日受付にてお渡しします
＜プログラム＞ 時間・講演順は変更される可能性があります
10:00-10:10 オープニング………服部 励治 (SID日本支部 支部長)
10:10-11:10 アモルファスシリコン(a-Si)TFT技術の立ち上げ…鈴木 幸治
11:10-11:20 （休憩）
11:20-12:20 Poly-Si TFTの低温作製技術…鮫島 俊之
12:20-13:20 （昼休憩）
13:20-14:20 プロジェクターの進化におけるHTPSパネルの技術開発…中川 雅嗣
14:20-14:30 （休憩）
14:30-15:30 FPDの発展を支えてきたバックプレーン技術の歩み…松枝 洋二郎
15:30-15:40 （休憩）
15:40-16:40 酸化物半導体の進展とFPD応用：IGZOを中心に…細野 秀雄
16:40-16:50 最後に(第三回開催告知)………中村 卓 (SID日本支部 副支部長)
(敬省略)
＜参加費用＞
・SID会員 2,000円、非会員 17,000円、学生 無料 (税込)
※企業に所属している社会人博士課程の方は、社会人としてお申し込み下さい。
※ SID非会員は自動的に一年間のSID会員資格が得られます。
＜会員特典＞
・論文誌 Journal of SID、SID symposiumのDigest paperを無料で閲覧できます。
・Display Week、IDW、Euro Display等の国際会議や、サマーセミナー、IDW tutorial 等に会員料金で参加できます。
・情報誌Information Display Magazineを無料で受取れます。
＜申込み＞
50周年企画サイトより8月30日(水)までにお申し込み下さい。
https://sid-japan.org/sid_jc_50th_anniversary_2/
学生の場合は、学生証のコピーをセミナー事務局までe-mailでお送りください。
